- MEMS: Acceleration Sensors
- MEMS: Piezoelectric Inkjet Heads
- SEMI: SAW, FBAR Filters
- MEMS: Tunable Capacitors
- Datastorage: AMR, GMR, TMR Sensors
- MEMS: Fluxgates, inductive transducers
- SEMI: High-frequency IC components
- Micro LED: Contacts and fences
- SEMI: HEMT
- AR: Slanted Grating
IBS:
- 光通讯: DWDM、CWDM、GFF等(SiO2 / Ta2O5)
- 激光:高阈值低损伤膜片(激光陀螺仪、激光武器)、 啁啾激光反射镜(SiO2 / Ta2O5 / HfO2)
- 紫外:高阈值低吸收膜片(DUV/EUV 光刻机镜头镀膜)(Al2O3 / AlF3 / MgF2)
- 超导:双轴织构缓冲层(MgO / Y2O3)
IBD:
- 磁记录: W、TiN(DRAM)
- 红外成像( SiO2、 MgF2、 Al2O3)
- EUV掩模版:Si/Mo, Ru
- 光通信:CWDM、LWDM等
- 常规光学膜片
- 超导:MgO
沉积薄膜种类:
- 金属薄膜: Al、Cu、Cr、Ti、Ta、Ni、Mo、W、Au、Ag、Pt、Ru、Rh、lr、NiCr、CrCu、AICu、TiW等
- 磁性薄膜: Co、CoFe、NiFe、NiFeB、CoFeB、CoCr、CoPt、CoCrPt、lrMn、MnPt等
- 超导薄膜: Nb、NbN等
- 氮化物薄膜: Si3N4、AIN/AIScN、TiN、CrN、TaN等
- 硅化物薄膜: MoSi2、CrSi、TiSi等
- 碳化物薄膜: SiC、C等
- 氧化物薄膜: SiO2、Ta2O5、TiO2、AI2O3、MgO、ZnO、ITO、PZT等
- 红外薄膜: Ge、ZnS等
沉积薄膜种类:
- 金属电极/布线: Al、Cu、CrCu、AICu、Ni、Mo、W、Au、Ag、Pt、Ru、Rh、lr等
- 半导体栅极/粘附层/阻挡层: Ti/TiN、MoSi、TiSi、TiW、Ta/TaN等
- 磁性薄膜(磁存储/传感器): CoFe、NiFe、NiFeB、CoFeB、CoCr、CoPt、CoCrPt、lrMn、MnPt等
- 传感器/MEMS: Cr、AIN/AIScN、NiCr、CrSi、ITO、PZT等
- 光学薄膜: SiO2、Ta2O5、Si3N4等
- 红外薄膜: Si、Ge等
- 超硬薄膜: CrN、TiN、SiC、C等