公司成立于2022年,由昂纳集团与核心技术团队共同组建成立,主要研发、生产高端离子源系列产品和离子束设备(IBE/IBS/IBD等)及提供相关的技术服务;核心团队由拥有二十年以上在国际知名半导体设备企业长期从事设备技术和工艺研究经验的人员组成,针对目前市场相关设备及应用在实践中的不足及客户定制化需求总结出了一系列的优化方案。

        公司秉承自主研发离子源核心技术、开发系列离子源产品及相关设备;树立自主品牌,攻占高端设备市场;建立泛离子源领域全系设备的自有研发、生产、服务和上下游供应体系,致力于成为中国领先的半导体设备供应商及服务商。

使命:突破高端离子源核心技术壁垒,赋能精密制造国产化

愿 景:成为离子束微纳加工技术标准的定义者

价值观:创新立本,质量第一,业务至上

公司所研发的高端离子源产品及离子束刻蚀设备主要应用于MRAM、MEMS、光通讯、Micro-LED、AR/VR、超导、离子束抛光等领域,且是核心组件或设备。

        昂纳集团成立于2000年10月,是国家火炬计划重点高新技术企业,国家级企业技术中心。总部设在深圳,同时在北京、杭州、武汉、成都、香港、北美和欧洲设有多家公司研发中心。公司品牌为“O-Net”。昂纳科技通过20余年的奋斗,成长为世界上最大的光通信器件,模块和子系统供应商之一,并在光芯片、硅光、光学镀膜及光电封装多个高科技领域领跑。